作為芯片生產過程中最關鍵裝備的光刻機，有著極高的技術壁壘，有“半導體工業皇冠上的明珠”之稱，代表著人類文明的智慧結晶。

　　在在芯片這樣一個爭分奪秒的行業里，時間就是金錢。

　　據ASML官方介紹，ASML也一直在追求光刻機極致的速度，目前最先進的DUV光刻機，每小時可以完成300片晶圓的光刻生產。

　　這是一個什么概念呢?

　　我們來換算一下，完成一整片晶圓只需要12秒，這還得扣除掉晶圓交換和定位的時間，實際光刻時間要更短。

　　而一片晶圓的光刻過程，需要在晶圓上近100個不同的位置成像電路圖案，所以完成1個影像單元(Field)的曝光成像也就約0.1秒。

　　要實現這個成像速度，晶圓平臺在以高達7g的加速度高速移動。7g加速度是什么概念呢？F1賽車從0到100km/h加速約需要2.5秒，而晶圓平臺的7g的加速度，若從0加速到100km/h只要約0.4秒。

　　DUV是深紫外線(Deep Ultraviolet Lithography)，EUV是極深紫外線(Extreme Ultraviolet Lithography)。

　　從制程工藝來看，DUV只能用于生產7nm及以上制程芯片。而只有EUV能滿足7nm晶圓制造，并且還可以向5nm、3nm繼續延伸。

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